原子層沉積（ALD）高性能納米透明防腐薄膜制備技術是中心自主開發(fā)（ZL201610398336.7）的一種通過原子層循環(huán)沉積生長納米薄膜的技術，該技術在貴重金屬的表面防腐上具有顯著優(yōu)勢。
1. 靈活度高：可根據不同表面和形狀的防腐要求，選擇所需沉積的材料和厚度，實現(xiàn)均勻沉積，達到表面高效防腐；
2. 成膜均勻：避免了常規(guī)PVD、CVD技術帶來的無法在不規(guī)則表面形成均勻成膜的缺陷；
3. 防護能力強：沉積的薄膜致密度高、針孔少、透明性好，能充分隔絕腐蝕性、強氧化性等物質，起到全方位防護的作用；
4. 顏色可調、持久性強：通過精確控制沉積薄膜的厚度和光學常數，能調變沉積層表面不同的光澤度和顏色，且顏色持久不褪色，可大幅度提升金屬制品防腐外觀的可視效果，增加防腐制品的附加值；
5. 操作簡單：薄膜形成所需的溫度低、原料消耗少；薄膜沉積工藝設備全自動化控制，穩(wěn)定可靠，單位生產成本低，節(jié)能環(huán)保，具備規(guī)?；a業(yè)推廣的前景。
防腐領域：可用于各類貴重金屬、金銀首飾、紀念幣，電子器件連接處以及精密零部件的表面防腐。
